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Correlation of lithographic performance of the electron beam resists SML and ZEP with their chemical structure
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网址
https://doi.org/10.1116/1.4926387
DOI
10.1116/1.4926387 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena
作者：Anushka Gangnaik; Yordan M. Georgiev; Justin D. Holmes
出版日期：2015-07-01
求助人
Jack 在 2026-01-26 13:07:35 发布自天津，悬赏 10 积分
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