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 Selective wet etching of InGaAs∕InGaAsP in HCl∕HF∕CrO3 solution: Application to vertical taper structures in integrated optoelectronic devices HCl/HF/CrO3溶液中InGaAs/InGaAsP的选择性湿法刻蚀：在集成光电器件垂直锥形结构中的应用
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：Hui Huang; Xingyan Wang; Xiaomin Ren; Qi Wang; Yongqing Huang 出版日期：2005-07-01 |
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