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Electron-enhanced SiO2 atomic layer deposition at 35 °C using disilane and ozone or water as reactants 以二硅烷和臭氧或水为反应物的35℃电子增强SiO2原子层沉积
相关领域
原子层沉积
二硅烷
分析化学(期刊)
硅
化学
电子
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材料科学
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环境化学
量子力学
物理
有机化学
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者:Jonas C. Gertsch; Zachary C. Sobell; Andrew S. Cavanagh; Harsono Simka; Steven M. George 出版日期:2023-06-20 |
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