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标题
Pre-metal dielectric PE TEOS oxide pitting in 3D NAND: mechanism and solutions
3D NAND中的预金属电介质PE TEOS氧化物点蚀:机理与解决方案
相关领域
氧化物 与非门 材料科学 氮化硅 蚀刻(微加工) 氮化物 电介质 正硅酸乙酯 金属 化学工程 纳米技术 光电子学 图层(电子) 冶金 电子工程 逻辑门 工程类
网址
DOI
10.1088/1361-6641/ac419e doi
其它 期刊:Semiconductor Science and Technology
作者:Peizhen Hong; Qiang Xu; Jing-Wen Hou; Mingkai Bai; Zhiguo Zhao; et al
出版日期:2021-12-09
求助人
不想搞科研 在 2025-12-17 16:28:02 发布自湖北,悬赏 10 积分
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