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  Nucleation of highly uniform AlN thin films by high volume batch ALD on 200 mm platform 相关领域
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Partha Mukhopadhyay; Ivan Fletcher; Zuriel Caribe Couvertier; Brent Schwab; John Gumpher; et al 出版日期：2024-03-06 |
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