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[高分]
 KINETICS OF THE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF SILICON NITRIDE-FROM Si(CH3)4/ NH3/H2 GAS MIXTURES Si(CH3)4/NH3/H2气体混合物化学气相沉积氮化硅的动力学
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期刊：Le Journal de Physique Colloques 作者：Nicolas Roels; T. LECOINTE; René Guinebretière; J. Desmaison 出版日期：1989-05-01 |
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