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Thickness and metallization layer effect on interfacial and vertical cracking of sintered silver layer: A numerical investigation 相关领域
开裂
材料科学
复合材料
应变能释放率
图层(电子)
GSM演进的增强数据速率
多孔性
铜
断裂力学
冶金
电信
计算机科学
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| 其它 |
期刊:Microelectronics Reliability 作者:Fei Qin; Shuai Zhao; Lingyun Liu; Yanwei Dai; Tong An; et al 出版日期:2021-09-01 |
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