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 Atomic layer etching process application to TaO hard-mask etching for next-generation EUV (Extreme-Ultraviolet) photomask fabrication 原子层刻蚀工艺在下一代EUV（极紫外光）光掩模制作中的应用
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期刊： 作者：N. Inoue; Junji Sano; Takuo Kikuchi; Yoshie Okamoto; Kazuki Nakazawa; et al 出版日期：2024-11-12 |
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