Boron-doped amorphous carbon deposited by DC sputtering for a hardmask: Microstructure and dry etching properties

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标题	Boron-doped amorphous carbon deposited by DC sputtering for a hardmask: Microstructure and dry etching properties 直流溅射法制备硬掩模用掺硼非晶碳的显微结构和干法刻蚀性能相关领域材料科学硼溅射二次离子质谱法溅射沉积微观结构分析化学（期刊）无定形固体扫描电子显微镜兴奋剂化学工程复合材料纳米技术薄膜离子化学光电子学有机化学工程类
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2023.157895
DOI	10.1016/j.apsusc.2023.157895 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Sung‐Tae Kim; Ung-gi Kim; Jinseok Ryu; Do Kyun Kim; Miyoung Kim; et al 出版日期：2023-06-27
求助人	anyelengxin 在 2025-07-17 11:13:56 发布自天津，悬赏 10 积分
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