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 The influence of total ionizing dose on the hot carrier injection of 22 nm bulk nFinFET 总电离剂量对22 nm体nFinFET热载流子注入的影响
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期刊：Journal of Semiconductors 作者：Baoshun Wang; Jiangwei Cui; Qi Guo; Qiwen Zheng; Ying Wei; et al 出版日期：2020-12-01 |
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