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 Dry etching techniques for active devices based on hexagonal boron nitride epilayers 基于六方氮化硼外延层的有源器件的干法刻蚀技术
相关领域
蚀刻（微加工）
材料科学
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：S. J. Grenadier; J. Li; J. Y. Lin; H. X. Jiang 出版日期：2013-10-22 |
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