| 标题 |
Dislocation sink annihilating threading dislocations in strain-relaxed Si1−x Ge x layer |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Nanotechnology 作者:Sam-Jong Choi; Il-Hwan Kim; Jun-Seong Park; Tae-Hun Shim; Jea-Gun Park 出版日期:2020 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)