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Modeling etch rate and uniformity of oxide via etching in a CHF3/CF4 plasma using neural networks |
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期刊:Thin Solid Films 作者:Byungwhan Kim; Kwang-Ho Kwon; Sung-Ku Kwon; Jong-Moon Park; Seong Wook Yoo; et al 出版日期:2003-03-25 |
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