New developments in ligand-stabilized metal oxide nanoparticle photoresists for EUV lithography

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标题	New developments in ligand-stabilized metal oxide nanoparticle photoresists for EUV lithography
网址	https://doi.org/10.1117/12.2086488
DOI	10.1117/12.2086488 doi
其它	期刊：Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VI 作者：Obert R. Wood; Eric M. Panning; Christopher Ober; Jing Jiang; Ben Zhang; et al 出版日期：2015
求助人	樊珩在 2026-05-31 22:15:52 发布自上海，悬赏 20 积分
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