| 标题 |
Study on the measurement and mechanism of stress in SiO2 thin films |
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| DOI |
10.1364/oic.2010.wd12
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期刊:Optical Interference Coatings 作者:Tao Ding; Xiaowen Ye; Yongli Liu; Hongfei Jiao; Jinlong Zhang; et al 出版日期:2010-01-01 |
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(2025-6-4)