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[高分]
Kinetics of SiHCl3 Chemical Vapor Deposition and Fluid Dynamic Simulations |
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| DOI |
10.1166/jnn.2011.5029
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期刊:Journal of Nanoscience and Nanotechnology 作者:Carlo Cavallotti; Maurizio Masi 出版日期:2011-09-01 |
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(2025-6-4)