Silicon nitride films deposited from SiH2Cl2NH3 by low pressure chemical vapor deposition: kinetics, thermodynamics, composition and structure

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标题	Silicon nitride films deposited from SiH2Cl2NH3 by low pressure chemical vapor deposition: kinetics, thermodynamics, composition and structure
网址	https://doi.org/10.1016/0040-6090(92)90281-f
DOI	10.1016/0040-6090(92)90281-f doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：S.-L. Zhang; J.-T. Wang; Wayne D. Kaplan; Mikael Östling 出版日期：1992-06-01
求助人	NULL 在 2026-08-26 21:20:59 发布自中国香港，悬赏 10 积分
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