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Characterizations of Pulsed Chemical Vapor Deposited-Tungsten Thin Films for Ultrahigh Aspect Ratio W-Plug Process |
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期刊:Journal of The Electrochemical Society 作者:Soo‐Hyun Kim; E. Hwang; Seung-chul Ha; S. Pyi; Ho-Jung Sun; et al 出版日期:2005-06-01 |
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(2025-6-4)