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RE (La, Nd and Yb) doped CeO2 abrasive particles for chemical mechanical polishing of dielectric materials: Experimental and computational analysis
稀土(La,Nd,Yb)掺杂CeO2磨粒用于电介质材料化学机械抛光的实验与计算分析
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期刊:Applied Surface Science 作者:Jie Cheng; Shuo Huang; Li Yang; Tongqing Wang; Liquan Xie; et al 出版日期:2020-03-01 |
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