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标题
Characterization of thin Al2O3/SiO2 dielectric stack for CMOS transistors
用于CMOS晶体管的Al2O3/SiO2薄介质叠层的表征
相关领域
电介质 电容器 材料科学 原子层沉积 栅极电介质 等效氧化层厚度 氧化物 泄漏（经济） 光电子学 堆栈（抽象数据类型） 栅氧化层 高-κ电介质 随时间变化的栅氧化层击穿 热氧化 制作 量子隧道 晶体管 薄膜 分析化学（期刊） 纳米技术 电气工程 化学 电压 硅 病理 经济 计算机科学 宏观经济学 冶金 色谱法 程序设计语言 替代医学 工程类 医学
网址
https://doi.org/10.1016/j.mee.2022.111708
DOI
10.1016/j.mee.2022.111708 doi
其它 期刊：Microelectronic Engineering
作者：Yiyi Yan; Valeriya Kilchytska; Bin Wang; Sébastien Faniel; Yun Zeng; et al
出版日期：2022-01-06
求助人
Yuksn 在 2025-06-20 11:04:19 发布自福建，悬赏 10 积分
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