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Characterization of thin Al2O3/SiO2 dielectric stack for CMOS transistors

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作者
Yiyi Yan,Valeriya Kilchytska,Bin Wang,Sébastien Faniel,Yun Zeng,Jean‐Pierre Raskin,Denis Flandre
出处
期刊：Microelectronic Engineering [Elsevier]
日期：2022-01-06 卷期号：254: 111708-111708 被引量：18
链接
handle.netdoi.org
标识
DOI：10.1016/j.mee.2022.111708
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