Investigation of Lewis photobase-catalysed oxa-Michael addition for hot lithography

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标题	Investigation of Lewis photobase-catalysed oxa-Michael addition for hot lithography 相关领域平版印刷术材料科学纳米技术光电子学
网址	https://doi.org/10.1039/d5mh01050k
DOI	10.1039/d5mh01050k doi
其它	期刊：Materials horizons 作者：Klaus Ableidinger; Dominik Laa; Franziska Chalupa‐Gantner; Edma Gjata; Patrick Knaack; et al 出版日期：2025-01-01
求助人	kks569 在 2025-11-23 15:43:26 发布自中国，悬赏 10 积分
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