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标题
Investigating the Performance of Amorphous W / WN Bilayer as a Cu Diffusion Barrier in Si
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DOI
10.22067/JMME.2024.79637.1085 doi
求助人
陈鑫雨 在 2026-01-23 16:08:03 发布自安徽,悬赏 10 积分
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