| 标题 |
 Effects of ion damage on the surface of ITO films during plasma treatment 等离子体处理过程中离子损伤对ITO薄膜表面的影响
相关领域
X射线光电子能谱
工作职能
等离子体
离子
氧气
材料科学
图层（电子）
电子
表层
分析化学（期刊）
薄膜
化学
化学工程
纳米技术
色谱法
物理
工程类
量子力学
有机化学
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期刊：Applied Surface Science 作者：Hyunjung Shin; Chanhyung Kim; Changdeuck Bae; Jang-Sik Lee; Jaegab Lee; Sunghan Kim 出版日期：2007-05-20 |
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