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Characterization of optics and masks for the EUV lithography
极紫外曝光光学器件和掩模的特征
相关领域
极紫外光刻 光学 极端紫外线 平版印刷术 材料科学 溅射 溅射沉积 波长 光电子学 物理 薄膜 纳米技术 激光器
网址
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(02)00576-2
DOI
10.1016/s0167-9317(02)00576-2 doi
其它 期刊：Microelectronic Engineering
作者：V. Paret; Pierre Boher; Roland Geyl; Bernard Vidal; Magali Putero; et al
出版日期：2002-07-01
求助人
胖胖 在 2025-09-19 15:58:31 发布自广东，悬赏 10 积分
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