| 标题 |
 Thermoelectric transport properties of Si, SiGe, and silicide CMOS-compatible thin films Si、SiGe和硅化物CMOS兼容薄膜的热电输运性质
相关领域
材料科学
热电效应
薄板电阻
硅化物
光电子学
塞贝克系数
CMOS芯片
硅
薄膜
兴奋剂
电阻率和电导率
热电材料
半导体
温度系数
电气工程
纳米技术
复合材料
热导率
热力学
物理
工程类
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Review of Scientific Instruments 作者：Caroline Schwinge; Raik Hoffmann; Johannes Hertel; Marcus Wislicenus; Lukas Gerlich; et al 出版日期：2023-10-01 |
| 求助人 |
斯文败类
在
2025-08-29 16:26:20 发布，悬赏 10 积分
|
| 下载 | 暂无链接，等待应助者上传 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
非而者厚
COSMAO
YifanWang
七月流火
从容芮
爱静静
生椰拿铁死忠粉
不安青牛
XiaoLiu
mayhem
jyy
Alex
小花排草
linkman
小马同学
小分子凝聚体
GingerF
不配.
CAOHOU
可爱的函函
皖公网安备34019202002308
