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  Towards B-doped p-BaSi2 films on Si substrates by co-sputtering of BaSi2, Ba, and B-doped Si targets 通过共溅射BaSi2、Ba和B掺杂Si靶在Si衬底上制备B掺杂p-BaSi2薄膜
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杂质
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Hayato Hasebe; Kazuki Kido; Haruki Takenaka; Masami Mesuda; Kaoru Toko; et al 出版日期：2022-11-22 |
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晓希凝安
在
2025-08-21 10:26:02 发布，悬赏 10 积分
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