Investigations of surface reactions during C2F6 plasma etching of SiO2 with equipment and feature scale models

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标题	Investigations of surface reactions during C2F6 plasma etching of SiO2 with equipment and feature scale models
网址	https://pubs.aip.org/avs/jva/article-pdf/19/2/524/10995384/5...
DOI	10.1116/1.1349728 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者：Da Zhang; Mark J. Kushner 出版日期：2002-07-27
求助人	Atlantis 在 2026-09-29 15:24:07 发布自美国，悬赏 10 积分
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