Spatially Complementary In‐Plane Lattice Strain Engineering for Reduced Contact Resistance and Enhanced Ferroelectric Switching in Van Der Waals α‐In 2 Se 3 Ferroelectric Semiconductor Field‐Effect Transistors

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标题	Spatially Complementary In‐Plane Lattice Strain Engineering for Reduced Contact Resistance and Enhanced Ferroelectric Switching in Van Der Waals α‐In 2 Se 3 Ferroelectric Semiconductor Field‐Effect Transistors
网址	http://dx.doi.org/10.1002/adfm.78912
DOI	10.1002/adfm.78912 doi
其它	期刊：Advanced Functional Materials 作者：Jong‐Hyun Kim; Hyeong‐Kyu Jin; Soo‐Hyun Lee; Seung‐Hwan Kim; Deji Akinwande; et al 出版日期：2026-10-11
求助人	yyyy 在 2026-10-13 14:56:57 发布自重庆，悬赏 10 积分
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