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Influence of Si flow rate on the performance of MOCVD-deposited Si-doped Ga2O3 films and the applications in ultraviolet photodetectors
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DOI
10.1016/j.jcrysgro.2024.127914 doi
其它 期刊:Journal of Crystal Growth
作者:Wenkai Wu; Yao Wang; Qian Cheng; Jiale Li; Wenji Li; et al
出版日期:2024-10-06
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YXY 在 2026-07-28 21:36:44 发布自黑龙江,悬赏 10 积分
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