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Controlled SiO2 etching by HF in an HF/H2O liquid-like layer in a vacuum environment |
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A 作者:Samantha M. Rau; Micah H. Duffield; A. Rotondaro; Hanna Paddubrouskaya; Kate H. Abel; et al 出版日期:2026-10-08 |
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(2025-6-4)