Surface sulfurization of amorphous carbon films in the chemistry of oxygen plasma added with SO2 or OCS for high-aspect-ratio etching

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标题	Surface sulfurization of amorphous carbon films in the chemistry of oxygen plasma added with SO2 or OCS for high-aspect-ratio etching
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2023.158876
DOI	10.1016/j.apsusc.2023.158876 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Kenji Ishikawa; Thi‐Thuy‐Nga Nguyen; Yuta Aoki; Hiroyasu Sato; Junichi Kawakami; et al 出版日期：2023-11-08
求助人	甜甜钢铁侠在 2026-09-26 14:19:24 发布自安徽，悬赏 10 积分
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