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标题
Polishing Mechanism of CMP 4H-SiC Crystal Substrate (0001) Si Surface Based on an Alumina (Al2O3) Abrasive
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网址
https://www.mdpi.com/1996-1944/17/3/679/pdf?version=17066661...
AI链接 mdpi.com mdpi.com nih.gov nih.govdoi.org
DOI
10.3390/ma17030679 doi
其它 期刊：Materials
作者：Juntao Gong; Weilei Wang; Weili Liu; Zhitang Song
出版日期：2024-01-31
求助人
从容丶不解释 在 2025-09-29 10:48:36 发布自广东，悬赏 10 积分
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