| 标题 |
 Regulation of electrons between Ru and VN for high performance HER of low-level Ru doping in vanadium-nitrogen doped carbon catalysts 钒氮掺杂碳催化剂中低水平Ru掺杂高性能HER中Ru和VN之间电子的调节
相关领域
过电位
塔菲尔方程
材料科学
催化作用
钌
钒
无机化学
碳纤维
兴奋剂
过渡金属
物理化学
化学
冶金
有机化学
电化学
电极
复合材料
复合数
光电子学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Surfaces and Interfaces 作者：Changcheng Lin; Qi Zhang; Pei Han; Xiaoyu Wang; Xueqin Zuo; et al 出版日期：2024-05-31 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
dde
cdercder
无极微光
AllRightReserved
嘻嘻哈哈
Nexus
Moonpie
糊涂的雅琴
Scorpia112
Twonej
HFH
OK
ww2026
GingerF
仰望喀纳斯的星空
arniu2008
乐空思
安详乌龟
Pha66
殷勤的紫槐
皖公网安备34019202002308
