| 标题 |
Capacitance Degradation of SiC MOSFETs under Dynamic Reverse Bias Stress: Displacement Current-Induced Charge Injection and JFET Design Optimization 相关领域
JFET公司
电容
材料科学
降级(电信)
压力(语言学)
位移电流
电荷(物理)
光电子学
流离失所(心理学)
MOSFET
电流(流体)
电子工程
电气工程
电压
物理
晶体管
场效应晶体管
工程类
电极
心理学
语言学
哲学
量子力学
心理治疗师
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|