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 Surface roughness development during photoresist dissolution 光刻胶溶解过程中的表面粗糙度显影
相关领域
光刻胶
表面粗糙度
材料科学
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：Lewis W. Flanagin; Vivek K. Singh; C. Grant Willson 出版日期：1999-07-01 |
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