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标题
A magnetically controlled chemical–mechanical polishing (MC-CMP) approach for fabricating channel-cut silicon crystal optics for the High Energy Photon Source
用于制造高能光子源沟道切割硅晶体光学器件的磁控化学机械抛光（MC-CMP）方法
相关领域
抛光 硅 Crystal（编程语言） 光子 化学机械平面化 材料科学 光学 光子能量 光电子学 纳米技术 物理 复合材料 计算机科学 程序设计语言
网址
https://journals.iucr.org/s/issues/2023/01/00/yi5130/yi5130....
AI链接 iucr.org iucr.org nih.gov nih.govdoi.org
DOI
10.1107/s1600577522011122 doi
其它 期刊：Journal of Synchrotron Radiation
作者：Zhen Hong; Qianshun Diao; Wei Xu; Qingxi Yuan; Junliang Yang; et al
出版日期：2022-11-22
求助人
yuhuan 在 2025-08-30 18:53:21 发布，悬赏 10 积分
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