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  Fabrication of low-resonant-frequency inertial MEMS using through-silicon DRIE applied to silicon-on-glass 应用于玻璃上硅的透硅DRIE制造低谐振频率惯性MEMS
相关领域
微电子机械系统
硅
制作
深反应离子刻蚀
材料科学
光电子学
惯性参考系
硅谷
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蚀刻（微加工）
物理
反应离子刻蚀
医学
替代医学
病理
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量子力学
创业
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Jun Wu; Hui Zhang; Tamio Ikehashi 出版日期：2024-04-11 |
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Oliver
在
2025-08-29 09:08:29 发布，悬赏 10 积分
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