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标题
[高分] Formation of high moisture and dopant diffusion resistivity silicon nitride films by catalytic-CVD method
催化CVD法制备高水分和掺杂剂扩散电阻氮化硅薄膜
相关领域
掺杂剂 材料科学 电阻率和电导率 扩散 氮化硅 水分 氮化物 催化作用 硅 化学工程 兴奋剂 矿物学 复合材料 化学 冶金 光电子学 有机化学 热力学 物理 图层（电子） 工程类 量子力学
网址
https://doi.org/10.1051/jp4:20013112
DOI
10.1051/jp4:20013112 doi
其它 期刊：Journal de Physique IV (Proceedings)
作者：Akira Izumi; Hidekazu Sato; Hiroyoshi Matsumura
出版日期：2001-08-01
求助人
好好 在 2025-10-28 08:20:57 发布自江苏，悬赏 50 积分
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