Graded Crystalline HfO₂ Gate Dielectric Layer for High-k/Ge MOS Gate Stack

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标题	Graded Crystalline HfO₂ Gate Dielectric Layer for High-k/Ge MOS Gate Stack 用于高k/Ge MOS栅极堆叠的梯度结晶HfO₂栅极介电层相关领域材料科学物理
网址	https://ieeexplore.ieee.org/ielx7/6245494/9359727/09352953.p... AI链接 ieee.org ieee.org doaj.orgdoi.org
DOI	10.1109/jeds.2021.3058631 doi
其它	期刊：IEEE Journal of the Electron Devices Society 作者：Chan Ho Lee; Jeong Yong Yang; Junseok Heo; Geonwook Yoo 出版日期：2021-01-01
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