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 Effect of the carboxyl group number of the complexing agent on polishing performance of alumina slurry in sapphire CMP 络合剂羧基数对蓝宝石CMP中氧化铝浆料抛光性能的影响
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期刊：Ceramics International 作者：Wei Zhang; Hong Lei; Wenqing Liu; Zefang Zhang 出版日期：2023-05-01 |
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