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 Influences of annealing on structural and compositional properties of Al 2 O 3 thin films grown on 4H–SiC by atomic layer deposition 退火对原子层沉积法在4H-SiC上生长的Al 2 O 3薄膜结构和成分的影响
相关领域
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期刊：Chinese Physics B 作者：Lixin Tian; Feng Zhang; Zhanwei Shen; Guoguo Yan; Xingfang Liu; et al 出版日期：2016-11-29 |
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