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Interface Properties Improvement and VFB Modulation on HfO₂/IL/Si₀.₇Ge₀.₃ Gate Stacks Using LaFMD Passivation Without EOT Compensation
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网址
https://doi.org/10.1109/led.2025.3562628
DOI
10.1109/led.2025.3562628 doi
其它 期刊：IEEE Electron Device Letters
作者：Xiaotong Mao; Yongliang Li; Yu Zhou; Xiaofeng Jia; Shuai Yang; et al
出版日期：2025-04-21
求助人
dlwlrma 在 2026-02-01 11:32:39 发布自北京，悬赏 10 积分
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