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专利、报告等 用于通过固相扩散形成超浅掺杂区域的方法 |
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申请/专利号: CN201280015501.6 申请日期: 2012-03-30 公开/公告号: CN103477419A (关联公开/公告号: CN103477419B ) 公开/公告日: 2013-12-25 主分类号: H01L21/02(2006.01)(专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备) 分类号: H01L21/02(2006.01)H01L21/70(2006.01) 申请/专利权人: 东京毅力科创株式会社 发明/设计人: 罗伯特·D·克拉克 |
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