| 标题 |
 Control of etch profiles in high aspect ratio holes via precise reactant dosing in thermal atomic layer etching 在热原子层蚀刻中通过精确的反应物剂量控制高纵横比孔中的蚀刻轮廓
相关领域
托尔
蚀刻（微加工）
原子层沉积
材料科学
图层（电子）
氟
分析化学（期刊）
氟化氢
基质（水族馆）
缓冲氧化物腐蚀
氟化物
化学工程
化学
反应离子刻蚀
纳米技术
无机化学
冶金
有机化学
工程类
地质学
物理
海洋学
热力学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Andreas Fischer; Aaron Routzahn; Ryan J. Gasvoda; Jim Sims; Thorsten Lill 出版日期：2022-02-04 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
浮游
无极微光
yznfly
Zx_1993
淡淡土豆
xxfsx
小青椒
Mic
求助人员
淡定绮波
qingmoheng
子车茗
风吹麦田
8R60d8
eric888
Frank
欣喜的秋莲
pcr163
ccm
寻道图强
iNk
GingerF
zzdd
彭于彦祖
皖公网安备34019202002308
