Engineering the defect distribution via boron doping in amorphous TiO2 for robust photocatalytic NO removal

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标题	Engineering the defect distribution via boron doping in amorphous TiO2 for robust photocatalytic NO removal 非晶态TiO2中硼掺杂缺陷分布的研究相关领域光催化硼兴奋剂材料科学无定形固体化学工程光电子学化学结晶学工程类催化作用有机化学
网址	https://doi.org/10.1016/j.apcatb.2024.124239
DOI	10.1016/j.apcatb.2024.124239 doi
其它	期刊：Applied Catalysis B-environmental 作者：Hongbao Jia; Hai Shang; Yu He; Shulin Gu; Shuangjun Li; et al 出版日期：2024-05-01
求助人	追寻太阳在 2024-10-08 18:27:11 发布自中国，悬赏 10 积分
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