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 Y2O3 wall interactions in Cl2 etching and NF3 cleaning plasmas Cl2蚀刻和NF3清洗等离子体中的Y2O3壁相互作用
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Tianyu Ma; Tyler List; Vincent M. Donnelly 出版日期：2017-03-21 |
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