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标题
Sidewall damage in plasma etching of Si/SiGe heterostructures
Si/SiGe异质结构等离子体刻蚀中的侧壁损伤
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异质结 材料科学 蚀刻（微加工） 等离子体刻蚀 等离子体 光电子学 离子 噪音（视频） 反应离子刻蚀 偏压 制作 离子注入 电压 纳米技术 化学 电气工程 替代医学 人工智能 图像（数学） 病理 计算机科学 工程类 图层（电子） 量子力学 医学 物理 有机化学
网址
https://doi.org/10.1116/1.3097858
DOI
10.1116/1.3097858 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：Ruihua Ding; Levente J. Klein; Mark Friesen; M. A. Eriksson; A. Wendt
出版日期：2009-06-29
求助人
loywell 在 2025-08-07 13:15:34 发布自上海，悬赏 20 积分
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