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[高分]
 Performance Investigation of Dual-Halo Dual-Dielectric Triple Material Surrounding Gate MOSFET with High-κ dielectrics for Low Power Applications 相关领域
材料科学
MOSFET
电介质
光电子学
电气工程
栅氧化层
高-κ电介质
栅极电介质
跨导
电子工程
晶体管
工程类
电压
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期刊：JSTS Journal of Semiconductor Technology and Science 作者：Prashant Kumar; Neeraj Gupta; Nitin Sachdeva; Tarun Kumar Sachdeva; Munish Vashishath 出版日期：2020-06-30 |
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