| 标题 |
Effective surface passivation on n-type crystalline silicon of AlOx thin films by thermal atomic layer deposition 热原子层沉积AlOx薄膜n型晶体硅的有效表面钝化
相关领域
材料科学
钝化
图层(电子)
原子层沉积
硅
薄膜
沉积(地质)
热的
晶体硅
化学工程
纳米技术
冶金
古生物学
物理
沉积物
气象学
工程类
生物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Materials Science: Materials in Electronics 作者:Shiyu Qu; Xiaojie Jia; Lilan Wen; Xiaotong Li; Su Ju; et al 出版日期:2025-06-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|